Ụlọ ọrụ Microelectronics

Kemịkal eletrọniki:A makwaara ya dị ka ihe kemịkalụ eletrọniki. N'ozuzu, a na-ezo aka na ojiji nke kemịkalụ pụrụ iche na ihe kemịkalụ ụlọ ọrụ eletrọniki, dịka ọmụmaatụ: ihe eletrọniki, bọọdụ sekit ebipụtara, ụdị kemịkalụ niile na ihe eji eme ihe na nkwakọ ngwaahịa na mmepụta nke ngwaahịa ụlọ ọrụ na ndị ahịa. Enwere ike kewaa ha n'ime ihe ndị a site na ngwa dị iche iche: bọọdụ ntọala, photoresist, kemịkalụ electroplating, ihe mkpuchi ihe, ihe dị ọcha dị elu, gas pụrụ iche, ihe mgbaze, nhicha, ihe nnọchi anya doping tupu nhicha, ihe mkpuchi solder, acid na caustic, ihe mgbakwunye pụrụ iche eletrọniki na ihe enyemaka, wdg. Kemịkalụ eletrọniki dị iche iche, ihe achọrọ dị elu, obere dose, ihe achọrọ dị elu nke ịdị ọcha gburugburu ebe obibi, mmelite ngwa ngwa, nnukwu ntinye net, mgbakwunye uru dị elu, wdg. Njirimara ndị ahụ na-apụta ìhè karịa ka ọ na-eso mmepe nke teknụzụ igwe obere.

Ebumnuche nzacha:

iji wepụ ihe ndị na-adịghị mma na ihe ndị na-adịghị mma na colloidal;

Ihe achọrọ maka nzacha:

1. N'ihi oke mmiri nzacha viscosity, ụlọ nzacha ahụ ga-enwerịrị ike iguzogide nrụgide dị elu na ike igwe.

2. Ihe nzacha ga-enwerịrị ezigbo ndakọrịta;

3. Ọ na-eme ka e wepụ ihe ndị na-adịghị mma na ihe ndị na-adịghị mma na colloidal dị mma nke ọma.

Nhazi nzacha:

A na-akpọkwa bọọdụ sekit PCB dị ka bọọdụ sekit ebipụtara, ọ na-enye njikọ eletriki dị na ihe ndị eletrọniki. Dịka oyi akwa bọọdụ sekit si dị, enwere ike kewaa ya n'ime otu panel, panel abụọ, bọọdụ oyi akwa anọ, bọọdụ oyi akwa isii na bọọdụ sekit multilayer ndị ọzọ.

Ebumnuche nzacha:

iwepụ ihe ndị na-adịghị ọcha na ihe ndị na-adịghị ọcha na colloidal n'ime mmiri ma ọ bụ mmiri mmiri;

Ihe achọrọ maka nzacha:

1. Oke mmiri na-eru, ike igwe dị elu, ndụ bara uru ogologo oge.

2. Ezigbo arụmọrụ nzacha.

Nhazi nzacha:

Usoro Nzacha:

CMP, pụtara Nchacha Mechanical. Ngwa na ihe oriri ejiri na teknụzụ CMP gụnyere: igwe nchacha, ihe nhicha, ihe nhicha mgbe CMP gasịrị, ngwa nchọpụta njedebe na njikwa usoro nchacha, ngwa ọgwụgwọ na nnwale ihe mkpofu, wdg.

Ngwọta CMP polishing bụ ụdị ngwaahịa polishing metal ionic dị elu na obere ionic site na usoro pụrụ iche nke ihe eji emepụta silicon powder dị elu. A na-ejikarị ya eme ihe n'ọtụtụ ihe dị iche iche na-emepụta nanoscale high planarization polishing.

Ebumnuche nzacha:

iji wepụ ihe ndị na-adịghị mma na ihe ndị na-adịghị mma na colloidal;

Ihe achọrọ maka nzacha:

1. Ihe na-agbaze ngwa ngwa site na ihe nzacha, enweghị mfu ọkara

2. Ezigbo ikike iwepụ ihe ndị na-adịghị mma, ndụ bara uru ruo ogologo oge.

3. Oke mmiri na-eruba, ike igwe dị elu

Nhazi nzacha:

Usoro Nzacha: